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更新时间：2024-03-18 | 阅读：1242
详情介绍
MILA-5000系列可以进行高速加热/冷却和清洁加热，这是红外金像炉的功能，可以在自由的气氛中加热，并且紧凑且便宜，并带有集成的温度控制器和可调空气室，红外灯加热装置，
通过USB连接可以在个人计算机上进行加热操作，并且可以轻松地管理数据。
选择任何气氛，例如真空，气体，气流，气氛
精确的温度控制
桌面和紧凑型设计
您可以轻松设置温度程序并从计算机输入外部信号。
可以在个人计算机上显示加热过程中的温度数据。
铁电薄膜的晶体退火
离子注入后的扩散退火，氧化膜形成退火
硅，复合片烧结，合金化处理
玻璃基板浸水仪
热循环，热冲击，热疲劳测试
加热炉进行升温脱附试验
催化效果测试
| 模型 | MILA-5000-PF （均热型） | MILA-5000-PN （高温型） | MILA-5000UHV （高温/高真空型） |
|---|---|---|---|
| 温度范围 | 室温〜800℃ | 室温〜1200℃ | |
| 样品尺寸 | 正方形20mm x厚度2mm | ||
| 加热气氛 | 在空气中，真空中，惰性气体中 | 在空气，高真空，惰性气体中 | |
| 极限真空度 | 6.5Pa（RP * 1使用，室温空载） | 10 -4 Pa（TMP * 1使用，室温空载） | |
* 1是可选的真空排气装置
* 2加热温度根据被加热材料的红外反射/吸收率，热容量和材料而异。
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