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红外金像一种用于熔炉和石英室的简单设备。
红外金像一种低成本的加热系统,由一个装有炉子和样品架的石英室组成。
化合物半导体合金化
Si,化合物半导体RTA
陶瓷基板层压板的烧成炉
玻璃/陶瓷基板退火炉
石英室可以选择气流型或真空型(标准为气流型)
作为一种选择,可以将气流类型和真空类型组合在一起。
您可以轻松设置温度程序并从计算机输入外部信号。
另外,可以在个人计算机上显示加热期间的温度数据。
模型 | SSA-E45 | SSA-E410 | SSA-P610C |
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加热方式 | 红外椭球反射聚光型 | 红外椭球反射聚光型 | 红外抛物线反射聚光型 |
温度范围 | 室温〜1400℃ | 室温〜1200℃ | |
热处理区 | φ15毫米x长度50毫米 | φ15mm×长100mm | φ50mm×长100mm |
均 热区(加热时) | φ10毫米x长度40毫米 | φ10毫米x长度80毫米 | φ40mm×长80mm |
热处理室 | 石英φ30(气流型) | 石英φ98(气流型) | |
石英样品架 | 石英制成(端口类型) | 石英制成(2英寸平板型) | |
热电偶 | JIS“ R" 1对 | ||
程序温度控制器 | TPC5000-32-1 | TPC5000-62-1 |
*温度范围取决于样品的热容量和红外线的反射/吸收。