多层膜沉积设备VES-10的功能优势

该设备有两个独立的腔室，分别具有碳蒸发、磁控溅射、亲水处理等功能。一台设备具备VC-300、MSP-1S、PIB-10三种型号的性能。两个排气管系统使用外部旋转泵排气进行切换。
另外，每个腔室都可以独立抽真空并释放到大气中，并且腔室可以保持真空。

碳蒸镀
TEM、SEM、X射线分析等碳膜生成设备用于防止树脂嵌入样品等的充电。

这是用于离子溅射
SEM观察的贵金属薄膜镀膜专用装置。我们进行贵金属涂层以防止SEM样品充电并提高二次电子产生效率。除了使用磁控管靶电极进行低压放电外，还将样品台制成浮动式，以减少电子束流入对样品造成的损坏。

亲水处理
用于透射电镜网格、火棉胶支撑膜、碳支撑膜等金刚石刀具的亲水处理，以及油脂污渍的清洗。
交流放电产生的等离子体离子照射到样品表面。破坏样品表面的化学键并形成官能团。这促进了活性样品表面和水分子之间的化学键合，使其具有亲水性。
它还可以有效破坏油污和脂肪污渍的化学键并将其去除。
照射强度（软/硬）可以切换。

该产品是一套装置，包括装置本身、旋转泵和 SUS 软管。
需要亲临现场讲解安装和操作。

VES-10 消耗品/零件清单

VES-10 的
金靶材
[t=0.1mm]

VES-10 的
Pt 靶材
[t=0.1mm]

VES-10 的
Au-Pd 靶材
[t=0.1mm]
Au60%: Pd40%

VES-10 的
Pt-Pd 靶材
[t=0.1mm]
Pt80%: Pd20%

VES-10 的
银靶材
[t=0.5mm]

专用碳
SLC-30
1箱（100个）

碳纤维
SLC-30
10 盒套装

VES-10 玻璃瓶包装（2 件为 1 套）

VES10 碳涂层侧玻璃腔室

VES10 离子涂层侧玻璃室

旋转泵油（500ml）
[SMR-100]

如果玻璃室、夹紧弹簧和防尘板等老化或损坏的部件，我们还可以制造它们。
对于任何其他维护/维修查询，请通过服务查询与我们联系。

溅射金属粒子的比较

Au：金
观察面积：数千至10,000倍
Au-Pd：金钯
观察面积：10,000至50,000倍
适合低倍率观察，对比度良好。

Pt：铂
观察面积：10,000～50,000倍
Pt-Pd：铂钯
观察面积：30,000～50,000倍
粒径细小，常用于高倍率观察。

该装置溅射功能的主要目的是在台式SEM或通用SEM观察之前进行导电涂层。

*如果您使用能够高倍观察的FE-SEM，请考虑使用钨溅射装置（MSP-20TK）或锇镀膜机（HPC-20）。

*如果您优先考虑电极制作等的薄膜质量，请考虑可在氩气气氛中溅射的MSP-20系列。

碳镀膜机与高真空蒸发设备的区别

碳镀膜机主要分为仅有旋转泵排气的设备或配备涡轮泵的高真空蒸发设备。了解高真空蒸发设备性能的差异在选择设备时非常有用。

	旋转泵排气气相沉积设备 VES-10、VC-300S/W	高真空抽真空沉积设备 VE-2013、VE-2050 等
真空排气系统	旋转泵	旋转泵+涡轮分子泵
沉积真空度	1-2（帕）	5×10 -3 (Pa)以下
颗粒感	颗粒细，但膜较粗。	颗粒细密，膜质美观。
膜质量	该薄膜粗糙且易碎，因为它在与残余分子碰撞时积累。	无残留分子，颗粒呈直线飞行、粘附，膜质洁净、坚固。
环绕能力	它在与残余分子碰撞时向多个方向散射，因此具有一些环绕特性。	颗粒沿直线飞行并粘附，但在阴影区域不形成薄膜。
使用碳气相沉积的目的	切片和支撑膜的加固、元素分析、高倍SEM观察、FIB保护膜等。	切片和支撑膜的强化、元素分析、高倍SEM观察、FIB保护膜、碳支撑膜的制作、遮蔽法等。

*碳镀膜机是针对特定用途而设计的，其用途有限，但可以降低设备价格。

VES-10 设备规格