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日本toel高压过程监测气体分析仪 XPR3
Transpector XPR3 是基于四极杆的下一代高压过程监测器。 尽管外观紧凑(总长度 237 mm),但它可以在从 2.6 Pa 到高真空的宽范围内使用。 不需要大型复杂的差速排气装置。
特点
●重新设计的离子源减少了污染物的影响,延长了使用寿命,并提供清晰的信号来自双离子源的一个离子流被送入四极杆过滤器进行分压测量,另一个离子流被发送到全压收集器。 这使得连续的总压力测量具有比离子碱更高的精度。 这改善了高压范围内的灵敏度损失,并以1.1 Pa为单位实现了测量精度。
●在PVD工艺压力下运行的新型EM(二次电子倍增管)可实现快速干净的数据收集,并且无需从FC更改为EM而便于数据转换
●新型扩展四极杆提高了低质量范围内的过滤性能和丰度灵敏度,以及氢气检测灵敏度
应用实例
・PVD工艺模块
・预清洗模块
・脱气模块
双离子源经过改进,可最大限度地减少污染物的影响,从而延长离子源的使用寿命。
来自该双离子源的离子流之一被送入四极杆过滤器进行分压测量,另一个离子流被发送到全压收集器。 这允许以比离子计更高的精度连续测量总压力。
日本toel高压过程监测气体分析仪 XPR3
质量范围 | 1~100(阿姆) |
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分辨率 | < 1@10%,在质量 4、20、28、40 下测量(根据 1993 年 AVS 建议) |
质量过滤器类型 | 四极杆 |
探测器类型 | 离轴 FC 和微通道板 EM |
温度系数 | <1% / 1°C 作为峰高(在 FC 信号 Ar 1.3E-2Pa 时) |
质量峰稳定性 | 24小时内<0.1amu (FC信号Ar 1.3E-2Pa,STP常数) |
质量峰比稳定性 | 24小时内<2%(2/40,4/40,20/40,28/40) |
灵敏度(标称) | FC@40eV/200μA:≧3E-9安培/帕 EM@40eV/200μA:≧3E-5安培/帕 |
最小检测分压 | FC@40eV/200μA:≧3E-7Pa EM@40eV/200μA:≧8E-10Pa |
最大工作压力 | 光纤通道或电磁程:2.6Pa(线性操作:1.3Pa) |
传感器最高工作温度(最高烘烤温度 ) | 150°C(200°C:去除浮渣) |
PPM 检测限值 | 10ppm(@0.13~0.65Pa工艺压力) |
工作温度 | 20~50°C |
输入功率 | 20~30VDC,9针D型连接器(公头),内部与系统接地隔离 |
RS232串行通讯接口 | 非隔离,波特率 1200~9600 波特,9 针 D 连接器(母头) |
RS485 通信接口 (可寻址) | 隔离,固定波特率 (57,600),半双工,固定地址 1~31,9 针 D 连接器(母头) |
继电器输出 | 4个系统,24V-0.5A(工作状态×1,极限设定点×3) |
输入 | 2路非隔离×TTL输入,2路触点输入,0路差分模拟×输入,10~<>VDC |