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更新时间：2024-03-23 | 阅读：979
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日本union研发台式光刻设备EMA-400
该产品是一种节省空间且易于操作的掩模对准器，具有高性能和低成本，使其成为大学和企业实验室的理想选择。 该产品是同类产品中采用两用显微镜和集成透镜（照明系统）的产品，可实现高精度的对准和燃烧。
日本union研发台式光刻设备EMA-400
| 面罩尺寸 | 高达 □5" |
| 晶圆尺寸 | 最大φ4英寸 |
| 曝光照明 | 250W超高压汞灯 |
| 光学方法 积分器透镜方法 | |
| 不均匀照度±5%以下 | |
| 照度 20mW/cm2 （405nm） | |
| 有效曝光范围 φ100mm | |
| 曝光：带数字计时器的旋转电磁阀驱动器 | |
| 曝光模式 | 软接触，硬接触 |
| 分辨率 | 2μm（硬触点） |
| 对齐范围 | 双显微镜 |
| 10 x 2x 物镜 （N.A. 0.15 宽深 30mm） | |
| 物镜间距 15~75mm | |
| 目镜NWF10×（18 视野） | |
| 整体放大倍率：100x | |
| 晶圆台 | XY载物台行程±5mm |
| θ 旋转行程 ±5° | |
| Z轴行程 0~4mm | |
| 对齐方式 | 通过晶圆平台移动手动对准 |
| 对准精度 | ±3微米 |
| 安装尺寸 | 735（宽）×490（深）×605（高）毫米 |
| 安装重量 | 约90公斤 |
| 效用 | 电源 AC100V 15A 50/60Hz |
| 真空（压力）21.3kPa（大气压以上-80kPa） | |
| N² 气体或干燥空气（压力） 0.2 MPa 或更高 |
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