日本medas陶瓷和半导体气体处理装置KY-05

适用于处理恶臭物质、有机溶剂、陶瓷和半导体气体，环境净化，无二次污染。

气体处理有机化合物（易燃物质）的一种方法是使用催化剂的氧化分解（催化氧化）方法。 当工艺气体在空气中燃烧时，它可以全部氧化而不会引起火焰。
当直接处理的气体在火焰中燃烧时，处理气体将其保持在600°C~800°C，除非加热0.3秒~0.5秒或更长时间，否则不会全部氧化，但在催化剂的情况下，温度也低至200°C~350°C，因此可以应用电加热器，与活性炭吸附和化学吸收法（洗涤器）相比，处理效率也非常高。 即使是在含有有害有机金属化合物的半禅体生产过程中排放的气体，如果采用本公司的半致密废气处理系统，也可以在催化剂表面生成常规方法无法处理的气体作为化合物，排出而不排放出系统。

产品特点

气体处理有机化合物（易燃物质）的一种方法是使用催化剂的氧化分解（催化氧化）方法。 当工艺气体在空气中燃烧时，它可以全部氧化而不会引起火焰。
当直接处理的气体在火焰中燃烧时，处理气体将其保持在600°C~800°C，除非加热0.3秒~0.5秒或更长时间，否则不会全部氧化，但在催化剂的情况下，温度也低至200°C~350°C，因此可以应用电加热器，与活性炭吸附和化学吸收法（洗涤器）相比，处理效率也非常高。 即使是在含有有害有机金属化合物的半禅体生产过程中排放的气体，如果采用本公司的半致密废气处理系统，也可以在催化剂表面生成常规方法无法处理的气体作为化合物，排出而不排放出系统。

气体处理有机化合物（易燃物质）的一种方法是使用催化剂的氧化分解（催化氧化）方法。 当工艺气体在空气中燃烧时，它可以全部氧化而不会引起火焰。
当直接处理的气体在火焰中燃烧时，处理气体将其保持在600°C~800°C，除非加热0.3秒~0.5秒或更长时间，否则不会全部氧化，但在催化剂的情况下，温度也低至200°C~350°C，因此可以应用电加热器，与活性炭吸附和化学吸收法（洗涤器）相比，处理效率也非常高。 即使是在含有有害有机金属化合物的半禅体生产过程中排放的气体，如果采用本公司的半致密废气处理系统，也可以在催化剂表面生成常规方法无法处理的气体作为化合物，排出而不排放出系统。

日本medas陶瓷和半导体气体处理装置KY-05

产品用途

气体处理有机化合物（易燃物质）的一种方法是使用催化剂的氧化分解（催化氧化）方法。 当工艺气体在空气中燃烧时，它可以全部氧化而不会引起火焰。
当直接处理的气体在火焰中燃烧时，处理气体将其保持在600°C~800°C，除非加热0.3秒~0.5秒或更长时间，否则不会全部氧化，但在催化剂的情况下，温度也低至200°C~350°C，因此可以应用电加热器，与活性炭吸附和化学吸收法（洗涤器）相比，处理效率也非常高。 即使是在含有有害有机金属化合物的半禅体生产过程中排放的气体，如果采用本公司的半致密废气处理系统，也可以在催化剂表面生成常规方法无法处理的气体作为化合物，排出而不排放出系统。