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更新时间：2024-03-22 | 阅读：1757
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日本kurabo液体成分浓度计ChemicAlyzer
ChemicAlyzer 是一种液体成分浓度计，采用采用光吸收原理的在线设计实现连续测量。自 1990 年开始作为红外液体成分浓度计的先驱开展业务以来，我们利用我们丰富的专业知识和技术，通过响应测量来应对质量和化学浓度方面不断发展的半导体器件制造过程需求，支持的管理。
我们将通过灵活应对工艺和特殊化学品，以及通过高精度化学浓度测量“提前应对测量需求"，继续为优化制造工艺做出贡献。
・抗蚀剂剥离剂的浓度控制
・再生化学品的浓度管理
・后处理化学品的浓度控制
・酸碱清洗液的浓度控制
・氧化膜/氮化膜蚀刻液的浓度控制
・其他特殊化学品的浓度管理
此外，它还广泛应用于电池材料制造过程和清酒和醋的发酵测量等行业。
因其高性能测量技术而受到高度评价，已在日本、东亚和美国销售超过 3,000 台！
| 测量方法 | 近红外透射光谱 |
|---|---|
| 最短测量时间 | 2 秒 |
| 测量值输出 | DC4-20mA |
| 输入信号 | 晶体管电流驱动输入（测量、校准、预热结束等） |
| 输出信号 | 集电极开路输出（READY、BUSY、设备错误、测量、成功、上下限报警等） |
| 接液部分材料 | 石英池规格：PFA、PTFE、石英（池）、全氟（O 型圈） 蓝宝石 池规格：PFA、PTFE、蓝宝石（池）、Kalrez（O 型圈） |
| 最大工作压力 | 0.2MPa |
| 管道直径 | IN: Φ3 × Φ2 OUT: Φ4 × Φ3(mm) 含1m管 |
| 主要用途 | 成分1 | 成分 2 | 成分 3 | 评论 | 通用名称 | 推荐高精度型 | 支持所需的特殊波长 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 半导体 | NH3_ _ | H2O2 _ _ _ | APM, SC1 | ||||
| 高频 | |||||||
| 高频 | 稀 | DHF | ○ | ○ | |||
| H2SO4 _ _ _ | H2O2 _ _ _ | SPM | |||||
| 高频 | H2O2 _ _ _ | FPM | |||||
| 高频 | H2O2 _ _ _ | 稀 | FPM | ○ | ○ | ||
| 高频 | 盐酸 | ○ | ○ | ||||
| 高频 | H2SiF6 _ _ _ | ○ | |||||
| 人机交互 | H2O2 _ _ _ | HPM，SC2 | ○ | ||||
| 氢氧化钾 | H2O2 _ _ _ | ||||||
| 氢氧化钠 | H2O2 _ _ _ | ||||||
| H3PO4 _ _ _ | |||||||
| 高频 | NH4F _ _ | ○ | |||||
| 高频 | HNO3 _ | ○ | |||||
| 高频 | H2O2 _ _ _ | CH3COOH _ _ | ◎ | ||||
| 液晶 | TMAH | 开发商 | |||||
| H3PO4 _ _ _ | HNO3 _ | CH3COOH _ _ | 蚀刻 | ◎ | |||
| H2SO4 _ _ _ | H2O2 _ _ _ | 铜 | 蚀刻 | ◎ | ○ | ||
| 水_ _ | 胺 | 溶剂 | 抗剥离 | ◎ | ○ | ||
| 其他 | 国际音标 | ||||||
| 水_ _ | 有机溶剂中的微量水 | ○ | |||||
| CH3COOH _ _ | C2H5OH _ _ _ _ | 尖酸刻薄 | ○ | ||||
| C2H5OH _ _ _ _ | 葡萄糖 | 清酒 | ○ | ○ |
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