日本sanmei纳米压印设备ImpFlex Essential

低价UV纳米压印设备ImpFlex Essential

纳米压印光刻作为下一代微细加工技术受到关注，它 比传统光刻具有更高的小型化、更低的成本和更高的产量。
该设备是在型号 ImpFlex 基础上*降低成本的低价型号。
以低廉的价格实现低残膜和均匀膜厚的压印引擎，继承自上层。

1. 搭载ImpFlex通用的压印引擎，残膜少，膜厚均匀性高！
2. *降低成本，实现低价！
3.支持消泡气工艺！
4.兼容各种模具！
5. 丰富的选项可以升级！

日本sanmei纳米压印设备ImpFlex Essential

纳米压印光刻作为下一代微细加工技术受到关注，它 比传统光刻具有更高的小型化、更低的成本和更高的产量。
该设备是在型号 ImpFlex 基础上*降低成本的低价型号。
以低廉的价格实现低残膜和均匀膜厚的压印引擎，继承自上层。

1. 搭载ImpFlex通用的压印引擎，残膜少，膜厚均匀性高！
2. *降低成本，实现低价！
3.支持消泡气工艺！
4.兼容各种模具！
5. 丰富的选项可以升级！

特征

1.实现高精度结构转移

具有*并联机构的“软载物台"实现了精细的转印操作，可最大限度地减少转印缺陷和纳米级图案形成。此外，新开发的 LED 光源可实现均匀的紫外线照射，并实现低边缘粗糙度。