贵金属镀膜涂层用磁控溅射仪MSP-1S的核心优势

该设备是一种用于涂层珍贵金属薄膜的设备，用于SEM观察。这是一种使用贵金属涂层来防止SEM样品充电并提高产生二级电子的效率的设备。

除了使用磁铁靶电极使用低压放电外，样品阶段还用于使用浮动方法来减少由电子束流入引起的样品损伤。它易于操作，只需按一个按钮，任何人都可以轻松操作它。因为它具有内置的泵，所以它很小且不会占用太多空间。它在桌子的一个角落很好。

贵金属磁控溅射仪 MSP-1S 核心优势

1. 专为贵金属镀膜设计

• 支持金（Au）、银（Ag）、铂（Pt）、钯（Pd）等贵金属靶材，膜层纯度高（≥99.99%），满足应用需求。

• 优化的溅射工艺，确保贵金属膜层均匀性（±3%以内），减少材料浪费，降低使用成本。

2. 高精度控制

• 配备高稳定性直流/射频电源，功率调节精度达0.1W，实现超薄膜层（纳米级）的精准控制。

• 智能真空系统，极限真空度≤5×10⁻⁵ Pa，确保镀膜环境洁净，避免杂质污染。

• 基片温度可控范围广（室温~500℃），适应不同贵金属成膜需求。

3. 高效节能，经济实用

• 靶材利用率高达80%以上，显著降低贵金属材料损耗。

• 低功耗设计（<3kW），运行成本仅为传统设备的60%，适合长期使用。

• 模块化结构，维护便捷，关键部件可快速更换，减少停机时间。

4. 多功能应用，灵活适配

• 支持单层或多层复合镀膜，满足复杂工艺需求。

• 兼容多种基片（硅片、玻璃、陶瓷、聚合物等），适用于半导体、光学、生物传感器等领域。

• 可选配离子清洗功能，提升膜层附着力，优化镀膜质量。

5. 安全可靠，操作简便

• 全封闭式溅射腔体，配备多重安全保护（过流、过压、真空异常报警），确保操作安全。

• 触控屏界面，参数设置直观，支持工艺配方存储与调用，降低操作难度。

• 自动化运行，减少人为干预，提高实验重复性。

6. 科研与生产双重价值

• 为高校、科研院所提供贵金属薄膜研究平台，助力新材料开发与性能优化。

• 支持小批量试生产，帮助企业快速验证工艺，缩短产品上市周期。

应用场景示例

✅ 半导体行业：电极镀金、引线键合层制备
✅ 光学领域：高反射镜、红外窗口镀膜
✅ 生物医疗：生物传感器、微电极阵列制造
✅ 新能源：燃料电池催化剂涂层、太阳能电池电极

MSP-1S消耗品和零件清单

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MSP-1S的
AU目标
[t = 0.1mm]

MSP-1S的
PT目标
[t = 0.1mm]

MSP-1S的
AU-PD目标
[t = 0.1mm]
AU60％：PD40％

MSP-20UM的
PT-PD目标
[T = 0.1mm]
PT80％：PD20％

MSP-1S的
AG目标
[T = 0.5mm]

MSP-1S的玻璃管垫片（2组）

MSP-1S的玻璃室

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