更新时间：2024-12-24 
阅读：79用于反射薄膜生产等的自动溅射仪SC-701AT介绍
离子溅射是将靶材、样品均置于真空室中；首先进行抽真空，实现辉光放电所需的低气压环境；靶材接高压，为负极；样品台接地，为正极；靶材与样品台之间形成高压电场，电离气体；气体电离后，正离子飞向负极，轰击靶材，靶材原子被溅射飞出，沉积到样品上形成导电膜。
从排气→镀膜（蚀刻）→大气释放全自动
虽然是紧凑型，但可以控制膜厚（简易型）。
全自动溅射设备，操作简单，重现性高
配备镀膜/蚀刻模式
将电极膜粘贴到各种设备上
用于反射薄膜生产等。
| 阴极 | φ2 英寸/2 极对置电极 |
| 溅射靶材 | 单独出售 Au/Pt/Pd/Ag/Au-Pd/Pt-Pd |
| 蚀刻目标 | 包括 Al 目标 |
| 膜厚设定方法 | 预设方式/带数显膜厚监测仪 |
| 气体导入机构 | 针阀 |
| 真空泵 | 直连旋转泵：20l/min（带自动泄漏） |
| 排气操作 | 自动的 |
| 腔室尺寸 | 内径 φ120mm x D120mm（SUS材质） |
| 样品交换方式 | 前门开闭方式 |
| 尺寸（宽/深/高） | 机身：225/420/320mm RP：300/160/200mm |
| 重量 | 本体：15kg RP：9kg |
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