你有这样的烦恼吗？

• 手动分析需要成本、技能和时间。

• 我想知道什么时候更换化学过滤器合适。

• 电子元件模具的腐蚀

• 制造设备镜片雾镜

• 氧化膜耐压性下降

• 蚀刻不良

• 薄膜生长不良（晶体中出现缺陷）

利用 HORIBA 的 AMC 监控系统可视化污染状况并降低管理成本

HORIBA的AMC监测系统通过自动测量支持污染物浓度的趋势监测以及化学过滤器的维护和管理，补充了传统的手动分析测量，为解决客户的问题做出了贡献。此外，通过结合室外大气测量，我们可以提出更全面的测量解决方案。

特征

• 通过稳定的自动连续测量
  来监控污染趋势，我们可以估计产品和外围设备的缺陷原因，以及何时更换化学过滤器。

• 易于操作，
  无需特殊技能。减少行政成本、时间和人力成本

• 该系统可以根据您的需求进行升级。
  使用选线器的多点测量、使用手推车的便携式测量等（可选）

• 不仅支持洁净室内的大气测量，还支持室外空气的大气测量。

操作示例

• 洁净室或循环空气中分子污染物 (AMC) 的测量

• 在一些设备周围等地点进行集中测量

• 检测特定事件，例如由于交通流量（室外空气）增加而导致的氮氧化物浓度增加

提高时间分辨率 获取连续数据有助于 AMC 的早期检测！

• 它可以捕获测量值之间的详细波动，这是每周手动分析无法捕获的。

提高空间分辨率 通过多点测量估计 AMC 的来源！

• 它在大型工厂中特别有效，因为它可以通过切换线路，用一台设备测量多个位置（10 个或更多）。