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mitsuwa高分子材料劣化评价装置产品介绍
更新时间:2024-09-04      阅读:192

mitsuwa高分子材料劣化评价装置产品介绍

东北电子产业株式会社制造的化学发光分析装置

高分子材料在环境中逐渐氧化并开始劣化。
该装置采用未有的方法对材料的氧化进行定量,从而可以定量评估氧化劣化。 

如今,使用的回收料比原生料氧化程度更高,即使原材料相同,但由于工艺不同,成品性能也存在差异;即使生产批次和制造商不同,成品也因批次和制造商不同而存在差异。对于分析除耐候性以外的涉及氧化的因素(例如性能差异),这是一种非常有效的方法。

产品信息

测量原理

◆传统的化学发光法通过捕获人类不可见的光来检测氧化劣化主要在约数千小时后进行评估,直到达到设备可以检测到的水平。
该设备最早可以在几个小时后检测到变化,具体取决于材料和恶化速度。
 

通过捕获上面显示的光发射,您可以获得以下结果。 

・通过在空气中加热样品,过氧化物分解并检测到“第一个峰”。该第一个峰对应于测量时的过氧化物的量。
- 最终,它将达到平衡状态。此时的强度称为平衡发射强度(IS)。
- 如果样品中添加了稳定剂,稳定剂会阻挡它,但一旦消耗掉,样品本身就会氧化,发光强度会增加。
・第2个峰的起点被称为氧化诱导时间(OIT),可以根据该OIT评价样品的氧化稳定性。还可以通过 IS(平衡发射强度)评估样品的氧化稳定性。

阵容

◆高灵敏度型

产品名称/型号名称

超弱发光检测光谱仪

CLA-FS5

超弱发光检测光谱仪

CLA-ID5

外部的

 

 

检测方法

单光子计数法

使用光电倍增管(Photomultiplier)

检测波长

300nm至650nm(中心波长420nm)

冷却方式

一次冷却:帕尔贴元件二次冷却:水冷

测量项目

①发光亮度(次/秒)

②发射光谱(380nm至660nm/20nm分辨率)

发射亮度(计数/秒)

最短测量时间

(闸门时间)

0.1秒、1秒、10秒

光谱滤光片

内置15张(380nm至660nm:每20nm)

没有任何

触摸屏

显示项目

① 发光量 ② 样品室温度 ③ 样品室设定温度 ④ 状态 ⑤ GateTime ⑥ 报警

⑦详情 ⑧样品室开/关状态 ⑨快门开/关状态

通讯功能

USB 端口 (1) 使用特殊程序

尺寸/重量

523.5(宽)×411.5(深)×547(高)毫米

60公斤

310(宽)×420(深)×524(高)毫米

35公斤

◆成像功能型

产品名称/型号名称

弱发光图像测量装置

CLA-IMG5

瞬时光谱测量装置

共轭SP3

外部的

 

 

检测方法

背照式帧传输CCD相机

检测波长

400-800nm(中心波长600nm)

冷却方式

风冷

有效像素数

1024 x 1024 像素

1600 x 200 像素

解决

空间分辨率:约150μm×150μm

(选项:约10μm)

波长分辨率:约1nm

测量项目

发光图像

发射亮度(图像选择范围内)

发射光谱测量

接触时间

30毫秒~120分钟

0.01 至 10,000 秒

镜片

25mm F0.95(C接口)

入口狭缝宽度:0.1/0.5/1.0mm

内置快门

内置机械快门

没有任何

通讯功能

IEEE1394b

USB

尺寸/重量

310(宽)×446(深)×775(高)毫米

30公斤

310(宽)×420(深)×524(高)毫米

35公斤

 

 

 

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