更新时间：2023-06-25 
阅读：837半导体制造行业用光刻黄光介绍
光刻是半导体制造过程中不可少的工艺之一。
晶圆被光刻胶，然后进行蚀刻和掺杂过程。
NLT3-591nm系列以光刻胶不反应的波长发光，使其适用于光刻前后工艺中的设备照明，这是一种半导体制造工艺。
半导体设备照明、IC工厂照明、洁净室、黄室等
| 发光二极管波长 | 591纳米 |
|---|---|
| 预期寿命 | 工作温度 40°C 40，000 小时 * 寿命是照度为初始照度的 70% 时 |
| 工作温度 | -10°C~40°C（但不冻结） |
| 防护等级 | IP65 防护等级 |
| 电源线 | 3 米 （AWG26x2C） |
| 选择 | 安装磁铁 （ND-P03） |
|---|---|
| 型号/尺寸（毫米） | A | B |
|---|---|---|
| NLT3-05-DC-S | 210 | 200 |
| NLT3-10-DC-S | 330 | 320 |
| NLT3-20-DC-S | 580 | 570 |
| NLT3-30-DC-S | 830 | 820 |
| NLT3-40-DC-S | 1080 | 1070 |
| 型 | 大小 | 权力 | 盖 | 选择 |
|---|---|---|---|---|
| NLT3 |
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